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內容簡介

　　《真空鍍膜設備》詳細介紹瞭真空鍍膜設備的設計方法與鍍膜設備各機構元件的設計計算、設計參數的選擇，其中重點、係統地介紹瞭磁控濺射靶的設計計算和濺射鍍膜的膜厚均勻性設計。全書共分13章，主要講解真空鍍膜室結構、鍍膜室工件架、真空鍍膜機的加熱與測溫裝置、真空鍍膜機的抽氣係統、真空室電和運動的導入結構、濺射鍍膜設備的充布氣係統、蒸發源、磁控濺射靶、濺射鍍膜的膜厚均勻性等方麵的設計與計算。
　　《真空鍍膜設備》有很強的實用性，適閤真空鍍膜設備的設計製造、真空鍍膜設備的應用等與真空鍍膜技術有關的行業從事設計、設備操作與維護的技術人員使用，還可用作高等院校相關專業師生的教材及參考書。

內頁插圖

目錄

1 真空鍍膜設備設計概述
2 真空鍍膜室結構設計計算
2.1 基本設計原則
2.1 2鍍膜室的材料選擇與焊接要求
2.2.1 材料選擇
2.2.2 焊接要求
2.3 鍍膜室壁厚的計算
2.3.1 鍍膜室的計算壁厚
2.3.2 鍍膜室的實際壁厚與壁厚附加量
2.3.3 鍍膜室的最小壁厚
2.4 圓筒形鍍膜室殼體的設計計算
2.4.1 圓筒形鍍膜室基本設計參數
2.4.2 圓筒形鍍膜室的強度(壁厚)計算
2.4.3 外壓圓筒加強圈的設計
2.4.4 簡體加工允許偏差
2.4.5 鍍膜室封頭的壁厚計算
2.5 圓錐形殼體的設計
2.6 盒形殼體設計
2.7 壓力試驗
2.8 真空鍍膜室門設計
2.9 真空鍍膜室的冷卻

3 鍍膜室升降機構的設計
3.1 立式鍍膜機真空室的升降機構
3.1.1 機械升降機構
3.1.2 液壓升降機構
3.1.3 氣動液壓相結閤的升降機構
3.2 真空室的復位

4 鍍膜室工件架的設計
4.1 常用工件架
4.1.1 球麵行星傳動工件架
4.1.2 摩擦傳動工件架
4.1.3 齒輪傳動工件架
4.1.4 撥杆傳動工件架
4.2 工件架的轉速

5 真空鍍膜機的加熱與測溫裝置
5.1 加熱方式及其裝置
5.2 測溫方式與裝置
5.3 真空室內引綫設計

6 真空鍍膜機的擋闆機構
7 真空鍍膜機的抽氣係統設計
7.1 鍍膜設備用真空係統
7.1.1 普通鍍膜設備用典型高真空係統
7.1.2 超高真空係統
7.2 真空鍍膜機抽氣係統的設計
7.2.1 真空鍍膜設備對抽氣係統的要求
7.2.2 鍍膜機抽氣係統的放氣量計算
7.2.3 真空泵的選擇

8 真空室內電和運動的導人導齣結構設計
8.1 電導人導齣結構設計
8.1.1 電導入導齣結構設計要求
8.1.2 電導入導齣部件的結構形式
8.2 運動導入導齣結構設計
8.2.1 常規轉軸動密封導入導齣結構
8.2.2 磁流體動密封運動導入導齣結構
8.2.3 金屬波紋管密封柔性運動導入導齣結構
8.2.4 磁力驅動動密封運動導入導齣結構

9 充布氣係統設計
9.1 充布氣係統設計原則
9.2 充布氣係統結構設計
9.2.1 充布氣係統類型及結構
9.2.2 布氣管路結構形式
9.2.3 充布氣管路分析計算
9.3 充氣控製方式設計
9.3.1 封閉式氣壓穩定充氣控製
9.3.2 質量流量控製器充氣控製
9.4 真空室內充大氣時間計算

10 電磁屏蔽結構設計
10.1 真空鍍膜設備屏蔽概述
10.2 電磁輻射屏蔽設計

11 蒸發源的設計計算
11.1 電阻加熱式蒸發源的熱計算
11.2 e型槍蒸發源的設計計算
11.2.1 燈絲參數計算
11.2.2 磁偏轉綫圈及燈絲位置的確定
11.2.3 膜材蒸發時所需熱量
11.2.4 e型槍蒸發源的水冷卻
11.2.5 e型槍蒸發源的電源
11.2.6 多槍蒸發源的設計安裝
11.3 感應加熱式蒸發源的結構設計
11.3.1 坩堝設計
11.3.2 電源及其頻率的選擇
11.4 蒸發源的蒸發特性及膜厚分布
11.4.1 點蒸發源的膜厚分布
11.4.2 小平麵蒸發源膜厚分布
11.4.3 環形蒸發源
11.4.4 矩形平麵蒸發源
11.4.5 蒸發源與基片的相對位置

12 磁控濺射靶的設計
12.1 靶磁場的設計原則
12.1.1 磁場強度的選擇
12.1.2 磁場均勻性：
12.1.3 矩形靶彎道磁場設計
12.1.4 磁場設計改進方法
12.2 磁控靶的磁場設計計算
12.2.1 三維直角坐標係中的靶磁場
12.2.2 矩形平麵磁控濺射靶的磁場
12.2.3 圓形平麵磁控濺射靶的磁場計算
12.2.4 同軸圓柱磁環濺射靶的磁場計算
12.2.5 同軸圓柱條形磁體濺射靶的磁場計算
12.2.6 S槍濺射靶的磁場計算
12.3 平麵磁控靶結構改進
12.3.1 運動磁場的靶結構
12.3.2 雙環組閤磁極靶結構
12.3.3 組閤磁場靶結構
12.3.4 磁場分流靶結構
12.3.5 其他磁體形式的靶結構
12.4 永磁體及導磁片設計
12.4.1 永磁體材料
12.4.2 導磁墊片
12.5 陽極與屏蔽罩的設計
12.5.1 陽極設計
12.5.2 屏蔽罩設計
12.6 濺射靶水冷係統的設計與計算
12.6.1 冷卻水流速率的計算
12.6.2 冷卻水管內徑的計算
12.6.3 冷卻水管長度
12.7 靶材的設計選擇
12.7.1 靶材的種類
12.7.2 靶材的選用原則
12.7.3 對靶材的技術要求
12.7.4 靶材與陰極背闆的連接
12.7.5 常用靶材
12.8 磁控濺射靶設計方法
12.8.1 靶設計分析方法
12.8.2 磁控靶設計程序
13 濺射鍍膜的膜厚均勻性設計
13.1 濺射鍍膜不均勻性的原因及影響因素
……

精彩書摘

　　隨著我國國民經濟的發展，真空鍍膜設備在工業中的應用越來越廣，各領域的不同需求對真空鍍膜設備的設計提齣瞭越來越嚴格的要求。雖然近年來我國真空鍍膜設備的設計和製造水平有瞭長足的進步，但是總體來說，國內真空鍍膜設備的整體設計能力和生産水平不高，在品種和質量上難以參與國際市場的競爭。因此，加強高性能真空鍍膜設備的設計開發工作，已是勢在必行。
　　在20世紀80年代以前，真空鍍膜設備的設計以理論分析和模型實驗為主要方法。研究者采用理論公式近似解決在真空鍍膜設備設計中遇到的問題。例如磁場分析問題，由於邊界結構復雜，難以用理論公式錶述，隻能把實際邊界簡化，用近似理論公式錶述，得到的近似結果，提供設計參考。在此基礎上，把永磁體製作成實物模型，經過實驗檢驗後，纔能用到磁控濺射鍍膜機上，在此過程中不得不留有很大工程裕量，因此，從設計到生産，周期長、費用高、風險大。計算機技術的發展，使數值分析手段被引入到磁控濺射鍍膜機及相關部件的設計中。利用計算機軟件對磁控濺射陰極靶、離子源、真空室體、加熱器等磁控濺射鍍膜機的重要部件進行模擬仿真，不僅大大提高瞭磁控濺射鍍膜機的設計和製造水平，而且也是真空鍍膜設備設計方法的一次重要突破。在這個階段，國外相關的真空鍍膜設備研發機構和公司形成瞭用於真空鍍膜設備及相關器件設計的若乾成熟的計算機軟件。從功能上講，這些軟件分為電磁場分析軟件、磁控濺射與沉積行為分析軟件、熱場分析軟件、機構動力學分析軟件和荷電粒子動力學分析軟件。這些軟件用於電磁場、溫度場、氣體分布壓力場、真空室體的設計分析，為真空鍍膜設備及有關器件的設計和製造發揮瞭積極作用。

前言/序言

　　真空鍍膜設備的設計內容涉及材料學、機械學、自動控製、物理學、化學、電子學等多個學科。在編寫《真空鍍膜設備》一書的過程中，作者總結瞭多年的科研生産實踐成果和教學經驗，參閱瞭大量的國內外相關文獻及東北大學自用教材，綜閤參考並采用瞭國內外有關單位在鍍膜設備設計方麵的成熟經驗。書中係統地闡述瞭真空鍍膜設備各機構的設計計算及設計方法，其中還重點介紹瞭磁控濺射靶的設計計算和濺射鍍膜的膜厚均勻性設計。編寫本書的目的在於全麵係統地嚮讀者介紹真空鍍膜設備的設計方法及其最新進展。該書既注重真空鍍膜設備設計的理論體係和具體的設計計算，又反映真空鍍膜設備設計方法及其最新發展，可供真空鍍膜行業中的設備設計、工藝研究、生産管理等方麵人員閱讀，同時也可供各高等院校相關專業的師生使用。
　　在編寫過程中，宋青竹參與瞭相關資料的收集和整理工作，東北大學真空與流體工程研究所各位老師及有關單位和專傢們給予瞭大力支持，在此深緻謝意。
　　由於作者的水平所限，書中的欠妥之處，誠請讀者批評指正。
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9.4 真空室內充大氣時間計算

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7.1.1 普通鍍膜設備用典型高真空係統

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6 真空鍍膜機的擋闆機構

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4.1.3 齒輪傳動工件架

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11 蒸發源的設計計算

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2.3 鍍膜室壁厚的計算

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2.1 2鍍膜室的材料選擇與焊接要求

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