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　　《薄膜技術與薄膜材料》是筆者根據多年從事材料錶麵薄膜製備技術的科研和教學經驗編寫而成
　　《薄膜技術與薄膜材料》共分4章，分彆闡述瞭材料錶麵防護裝飾膜層的物理氣相沉積技術（包括真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學氣相沉積技術（包括簡單的CVD相關理論、設備裝置、CVD種類等），硬膜及超硬膜的製備技術（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及復閤薄膜等），以及利用化學、電化學反應在材料錶麵製備膜層的技術（包括化學鍍、化學氧化、鈍化、磷化，電鍍、陽極氧化、微弧氧化等內容）。
　　《薄膜技術與薄膜材料》除瞭具有一定的理論價值外，也具有較為廣泛的應用價值，即可作為薄膜材料研究專業科技人員的參考書，也可作為高等院校材料類及相關專業的本科生、研究生教學用書。

內容簡介

　　《薄膜技術與薄膜材料》是作者根據多年從事材料錶麵薄膜製備技術的科研和教學經驗編寫而成，全書共分4章，分彆闡述瞭材料錶麵防護裝飾膜層的物理氣相沉積技術（包括真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學氣相沉積技術（包括簡單的CVD相關理論、設備裝置、CVD種類等），硬膜及超硬膜的製備技術（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及復閤薄膜等），以及利用化學、電化學反應在材料錶麵製備膜層的技術（包括化學鍍、化學氧化、鈍化、磷化、電鍍、陽極氧化、微弧氧化等內容）。
　　《薄膜技術與薄膜材料》除瞭具有一定的理論參考價值外，也具有較為廣泛的應用價值，既可作為薄膜材料研究專業科技人員的參考書，也可作為高等院校材料類及相關專業的本科生、研究生教學用書。

目錄

1 物理氣相沉積
1.1 物理氣相沉積
1.2 真空蒸發鍍膜
1.2.1 真空蒸發的基本過程
1.2.2 蒸發熱力學
1.2.3 蒸發速率
1.2.4 蒸發分子的平均自由程與碰撞概率
1.2.4.1 蒸發分子平均自由程
1.2.4.2 碰撞概率
1.2.5 蒸發源的蒸發特性及膜厚分布
1.2.5.1 點蒸發源
1.2.5.2 小平麵蒸發源
1.2.6 蒸發源的類型
1.2.6.1 電阻加熱蒸發源
1.2.6.2 電子束加熱蒸發源
1.2.6.3 高頻感應加熱蒸發源
1.2.6.4 電弧加熱蒸發源
1.2.6.5 激光加熱蒸發源
1.2.7 閤金及化閤物蒸發
1.2.7.1 閤金的蒸發
1.2.7.2 閤金薄膜的製備方法
1.2.7.3 化閤物蒸發法
1.3 濺射鍍膜
1.3.1 輝光放電
1.3.1.1 直流輝光放電的過程與特性
1.3.1.2 帕邢定律
1.3.1.3 直流輝光放電的現象與其特性
1.3.1.4 高頻輝光放電的特性
1.3.2 濺射原理
1.3.2.1 濺射現象
1.3.2.2 濺射機理
1.3.2.3 濺射率
1.3.2.4 濺射原子的能量和速度
1.3.3 濺射鍍膜技術
1.3.3.1 二極濺射
1.3.3.2 三極或四極濺射
1.3.3.3 射頻（RF）濺射
1.3.3.4 磁控濺射
1.3.3.5 反應濺射
1.4 離子鍍膜
1.4.1 離子鍍原理
1.4.2 離子鍍膜條件
1.4.3 離子鍍的特點
1.4.4 離化率與離子能量
1.4.5 離子的轟擊作用
1.4.6 離子鍍類型
1.4.6.1 直流二極離子鍍
1.4.6.2 三極和多極型離子鍍
1.4.6.3 射頻離子鍍
1.4.6.4 空心陰極離子鍍
1.4.6.5 活性反應離子鍍

2 化學氣相沉積
2.1 化學氣相沉積的特點和分類
2.1.1 化學氣相沉積的特點
2.1.2 化學氣相沉積技術的分類
2.2 CVD反應類型
2.3 CVD過程的熱力學
2.3.1 化學反應的自由能變化
2.3.2 CVD中的化學平衡的計算
2.4 CVD中的氣體輸運
2.4.1 流動氣體邊界層及影響因素
2.4.2 擴散和對流
2.5 CVD中薄膜生長動力學
2.5.1 薄膜生長的均勻性
2.5.2 溫度與沉積速率
2.6 CVD裝置
2.7 低壓化學氣相沉積
2.8 等離子化學氣相沉積
2.8.1 等離子體的性質
2.8.2 PCVD的特點
2.8.3 常用的PCVD裝置
2.8.3.1 直流等離子化學氣相沉積
2.8.3.2 脈衝等離子化學氣相沉積
2.8.3.3 射頻等離子化學氣相沉積
2.8.3.4 微波等離子化學氣相沉積
2.9 金屬有機物化學氣相沉積
2.1 0激光化學氣相沉積
2.1 1分子束外延

3 硬膜材料
3.1 金剛石薄膜
3.1.1 金剛石的結構和特點
3.1.2 金剛石的性質及應用
3.1.2.1 金剛石的力學性能
3.1.2.2 金剛石電學性能
3.1.2.3 金剛石的熱學性能
3.1.2.4 金剛石膜的光學性能
3.1.2.5 金剛石膜的其他性能
3.1.3 金剛石膜的錶徵
3.1.4 低壓閤成金剛石的機理
3.1.4.1 金剛石膜生長的基本原理
3.1.4.2 低壓氣相生長金剛石的驅動力
3.1.4.3 金剛石膜生成的基本條件
3.1.5 低壓沉積金剛石的方法與裝置
3.1.5.1 概述
3.1.5.2 熱絲化學氣相沉積
3.1.5.3 微波等離子體化學氣相沉積金剛石膜
3.1.5.4 等離子射流法
3.1.6 金剛石塗層刀具
3.1.6.1 金剛石塗層刀具的特點
3.1.6.2 金剛石塗層刀具的技術性能
3.2 類金剛石薄膜
3.2.1 類金剛石的相結構與錶徵
3.2.1.1 類金剛石的相結構
3.2.1.2 類金剛石膜的錶徵
3.2.2 類金剛石膜的性能
3.2.2.1 DLC膜的力學性能
3.2.2.2 DLC膜的電學性能
3.2.2.3 DLC膜的光學性能
3.2.2.4 DLC膜的其他性能
3.2.3 DLC膜的應用
3.2.3.1 DLC膜在機械領域的應用
3.2.3.2 DLC膜在聲學領域的應用
3.2.3.3 DLC膜在電磁學領域的應用
3.2.3.4 DLC膜在光學領域的應用
3.2.3.5 DLC膜在醫學領域的應用
3.2.4 DLC膜的製備方法
3.3 立方氮化硼薄膜
3.3.1 氮化硼的結構和性質
3.3.1.1 六角氮化硼的結構和性質
3.3.1.2 菱形氮化硼的結構和性質
3.3.1.3 縴鋅礦氮化硼的結構和性質
3.3.1.4 立方氮化硼的結構和性質
3.3.2 氮化硼的相圖
3.3.3 立方氮化硼的錶徵
3.3.3.1 傅立葉變換紅外譜（FTIR）分析
3.3.3.2 X射綫光電子譜（XPS）分析
3.3.3.3 氮化硼膜中化學配比的確定
3.3.3.4 薄膜的形貌觀測
3.3.4 立方氮化硼的性質和應用
3.3.5 立方氮化硼的製備方法
3.3.5.1 物理氣相沉積法
3.3.5.2 化學氣相沉積法
3.3.5.3 物理法與化學法製備c�睟N膜的比較
3.4 CNx膜
3.4.1 β�睠3N4的晶體結構
3.4.2 CNx膜的性能
3.4.2.1 硬度
3.4.2.2 耐磨損性能
3.4.2.3 電學性能
3.4.2.4 光學性質
3.4.3 CNx膜的結構分析與錶徵
3.4.3.1 CNx晶體結構的分析
3.4.3.2 CNx薄膜的成分分析
3.4.3.3 CNx薄膜的FTIR分析
3.4.3.4 CNx薄膜的Raman光譜測試
3.4.4 CNx的製備方法
3.4.5 CNx薄膜的應用
3.4.5.1 氮化碳塗層刀具乾切削矽鋁閤金
3.4.5.2 氮化碳塗層刀具乾切削淬火鋼
3.5 氮化物、碳化物、氧化物薄膜及復閤薄膜
3.5.1 概述
3.5.2 氮化物薄膜
3.5.2.1 TiN薄膜
3.5.2.2 其他氮化物薄膜
3.5.3 碳化物薄膜
3.5.3.1 TiC薄膜
3.5.3.2 其他碳化物薄膜
3.5.4 氧化物薄膜
3.5.4.1 氧化鋁鍍層
3.5.4.2 氧化鋯薄膜
3.5.5 復閤膜
3.5.5.1 TiCxNy薄膜
3.5.5.2 納米超硬復閤膜

4 薄膜在液相中的化學及電化學製備
4.1 薄膜在液相中的化學轉化製備
4.1.1 化學鍍
4.1.1.1 化學鍍鎳
4.1.1.2 化學鍍銅
4.1.2 化學氧化
4.1.2.1 鋼鐵的化學氧化
4.1.2.2 有色金屬化學氧化
4.1.3 鈍化
4.1.3.1 鈍化膜的形成過程
4.1.3.2 鈍化膜的組成和結構
4.1.3.3 鈍化工藝
4.1.3.4 影響鈍化膜質量的因素
4.1.4 磷化
4.1.4.1 鋼鐵磷化處理
4.1.4.2 有色金屬的磷化
4.2 薄膜在液相中的電化學轉化製備
4.2.1 電鍍
4.2.1.1 基礎知識
4.2.1.2 電鍍金屬
4.2.1.3 電鍍閤金
4.2.1.4 電刷鍍
4.2.1.5 非金屬材料電鍍
4.2.2 陽極氧化
4.2.2.1 鋁陽極氧化膜
4.2.2.2 鋁陽極氧化機理
4.2.2.3 鋁陽極氧化工藝
4.2.2.4 鋁陽極氧化膜的著色和封閉
4.2.2.5 陽極氧化法製備氧化鋁模闆
4.2.2.6 其他有色金屬陽極氧化
4.2.3 微弧氧化
4.2.3.1 鋁及鋁閤金的微弧氧化
4.2.3.2 鈦及鈦閤金的微弧氧化
4.2.3.3 微弧氧化技術的應用現狀及前景
參考文獻

前言/序言

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