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內容簡介

本書闡述瞭真空鍍膜的應用，真空鍍膜過程中薄膜在基體錶麵生長過程；探討瞭薄膜生長的影響因素；具體地介紹瞭真空鍍膜的各種方法，包括真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍以及化學氣相沉積的原理、特點、裝置及應用技術等。力求避開煩瑣的數學公式，盡量用簡單的語言闡述物理過程。通俗易懂、簡單易學。

目錄

前言

第一章 真空鍍膜概述
1.1 固態薄膜簡介
1.2 真空鍍膜簡介
1.2.1 真空鍍膜物理過程
1.2.2 真空鍍膜的分類
1.2.3 真空鍍膜的特點
1.3 真空鍍膜技術的應用和發展
1.4 真空鍍膜係統
1.4.1 真空鍍膜係統的基本概念
1.4.2 真空泵
1.4.3 真空計
參考文獻

第二章 真空鍍膜成膜過程
2.1 薄膜生長簡介
2.2 固體錶麵
2.3 薄膜生長過程
2.3.1 吸附
2.3.2 擴散和脫附
2.3.3 成核
2.3.4 連續膜的形成
2.4 薄膜生長的三種模式
2.5 固態薄膜的結構和缺陷
2.6 固體薄膜的性質
2.7 固體薄膜應力
2.8 薄膜與基體的附著力
2.9 基體

第三章 真空蒸發鍍膜
3.1 真空蒸發鍍膜原理
3.2 電阻蒸發源
3.2.1 電陽蒸發源的原理
3.2.2 電阻蒸發源的結構
3.2.3 電阻加熱源的主要特點
3.2.4 電阻加熱真空蒸發鍍的應用
3.3 電子束蒸發源
3.3.1 e型電子槍的原理和結構
3.3.2 e型電子槍蒸發源的特點
3.3.3 e型電子槍真空蒸發鍍的應用
3.4 感應加熱蒸發源
3.4.1 感應加熱蒸發源的原理
3.4.2 感應加熱蒸發源的特點
3.5 脈衝激光沉積（PLD）
3.5.1 PLD係統
3.5.2 PLD工作原理
3.5.3 PLD技術特點
3.5.4 PLD應用和發展
3.6 分子束外延
3.6.1 分子柬外延原理
3.6.2 分子束外延裝置
3.6.3 分子束外延特點
3.6.4 分子束外延技術應用及進展
3.7 真空蒸發鍍膜中的重要參數
3.8 蒸發鍍中基體上沉積的膜的厚度均勻性
3.8.1 單室蒸發鍍薄膜均勻性計算
3.8.2 蒸發源與基片的相對位置對薄膜均勻性的影響
參考文獻

第四章 真空濺射鍍膜
4.1 直流二極輝光放電
4.2 等離子體
4.3 濺射原理
4.4 直流濺射鍍膜
4.4.1 直流二極濺射鍍膜
4.4.2 直流二極偏壓濺射鍍膜
4.4.3 直流多極濺射鍍膜
4.5 直流磁控濺射鍍膜
4.5.1 磁控濺射鍍膜原理及特點
4.5.2 柱狀靶
4.5.3 平麵靶
4.5.4 S槍
4.5.5 磁控濺射鍍膜一般特徵
4.5.6 直流反應磁控濺射鍍膜
4.6 射頻濺射鍍膜
4.6.1 射頻輝光放電
4.6.2 射頻濺射鍍膜
4.7 中頻磁控濺射鍍膜
4.8 脈衝直流輝光放電鍍膜
4.9 非平衡磁控濺射鍍膜
4.10 真空蒸發和濺射鍍膜參數與薄膜形貌關係
參考文獻

第五章 真空離子鍍
5.1 等離子體離子鍍概述
5.1.1 等離子體離子鍍原理
5.1.2 等離子體離子鍍特點
5.1.3 等離子體離子鍍分類
5.2 等離子體蒸發離子鍍
5.2.1 e型電子槍蒸發離子鍍
5.2.2 空心陰極放電離子鍍
5.2.3 等離子體激活蒸發離子鍍
5.2.4 等離子體激活高速離子鍍
5.3 等離子體磁控濺射離子鍍
5.3.1 磁控濺射離子鍍
5.3.2 離化的磁控濺射離子鍍
5.3.3 高能脈衝磁控濺射離子鍍
5.3.4 自濺射
5.3.5 空心陰極輔助的高密度濺射離子鍍
5.4 電弧離子鍍
5.4.1 陰極電弧離子鍍
5.4.2 脈衝偏壓電弧離子鍍
5.4.3 陽極電弧離子鍍
5.5 束流離子鍍
5.5.1 離子束沉積
5.5.2 團簇離子束沉積
5.5.3 離子束輔助沉積
參考文獻

第六章 化學氣相沉積
6.1 概述
6.2 化學氣相沉積的動態過程
6.3 幾種常見的化學氣相沉積
6.3.1 熱化學氣相沉積
6.3.2 低壓化學氣相沉積
6.3.3 等離子體增強型化學氣相沉積
6.3.4 原子層沉積
6.3.5 其他化學氣相沉積簡介
參考文獻
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