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內容介紹
　　本書係統地、較全麵地論述瞭到目前各種紅外光學材料的光學、熱學和力學性質（參數），各種紅外光學材料的製備方*及工藝，以及工藝條件對各種性能産生影響。同時，對應用中所必須要考慮的增透膜和保護膜也做瞭論述，CVD金剛石是理想的窗口材料，對金剛石的性質、CVD金剛石的閤成機理、製備方*以及後續加工方*也做瞭介紹。

目錄
*1章 紅外光學材料基礎 1.1 引言 1.2 大氣窗口 1.3 黑體輻射——普朗剋輻射定律 1.4 波動方程和光學常數 1.5 反射和摺射 1.6 薄膜光學 1.7 摺射指數和色散 1.8 在各嚮異性介質中光的傳播——*摺射 1.9 透明介質中光的散射 1.10 透明介質熱輻射的發射率 1.11 斷裂強度和斷裂韌性 1.12 斷裂強度的統計分析 1.13 抗熱衝擊品質因子*1章  紅外光學材料基礎
  1.1  引言
  1.2  大氣窗口
  1.3  黑體輻射——普朗剋輻射定律
  1.4  波動方程和光學常數
  1.5  反射和摺射
  1.6  薄膜光學
  1.7  摺射指數和色散
  1.8  在各嚮異性介質中光的傳播——*摺射
  1.9  透明介質中光的散射
  1.10  透明介質熱輻射的發射率
  1.11  斷裂強度和斷裂韌性
  1.12  斷裂強度的統計分析
  1.13  抗熱衝擊品質因子
    1.13.1  壓力誘導應力
    1.13.2  熱誘導應力
    1.13.3  品質因子
  1.14  激光窗口的光畸變
  參考文獻
*2章  紅外光學材料的光學性質
  2.1  引言
  2.2  反射
  2.3  透過率和吸收係數及與溫度的關係
    2.3.1  概述
    2.3.2  紅外光學材料的透射波段
    2.3.3  Ge和Si
    2.3.4  GaAs和GaP
    2.3.5  藍寶石和氧化鋁多晶.
    2.3.6  氧化物多晶光學陶瓷--MgAl204、MgO、Y203、石英和YAG
    2.3.7  ZnS和ZnSe
    2.3.8  CVDSiC和CVDSi2*4
    2.3.9  MgF2和CaF2
    2.3.1  0硫係化閤物玻璃
  2.4  摺射指數、色散和摺射指數與溫度的關係
    2.4.1  Ge和Si
    2.4.2  GaAs和GaP
    2.4.3  氧化物光學陶瓷
    2.4.4  CVDZnS和CVDZnSe
    2.4.5  β—SiC和0α--Si3*4
    2.4.6  MgF2和CaF2
    2.4.7  硫係玻璃
  2.5  散射
  2.6  發射率
  2.7  紅外光學材料的微波透射性質
  參考文獻
第3章  紅外光學材料的力學與熱學性質
  3.1  引言
  3.2  紅外光學材料力學和熱學性質
    3.2.1  彈性模量E和泊鬆比v
    3.2.2  熱導率
    3.2.3  熱膨脹係數
  3.3  紅外光學材料的硬度及其影響因素
    3.3.1  硬度測試
    3.3.2  溫度對硬度的影響
    3.3.3  晶粒尺寸的影響
    3.3.4  壓力的影響.
    3.3.5  形成固溶體改善硬度
    3.3.6  化學鍵對硬度的影響
    3.3.7  硬度和材料其他參數的關係
  3.4  紅外光學材料斷裂強度及其影響因素
    3.4.1  常用的強度測試方*
    3.4.2  陶瓷材料強度的影響因素
  3.5  藍寶石單晶的高溫強度
    3.5.1  溫度對藍寶石強度的影響
    3.5.2  藍寶石高溫強度的改善
  3.6  紅外光學材料的斷裂韌性
  3.7  紅外光學材料抗熱衝擊品質因子
  3.8  固體粒子對紅外光學元件錶麵的衝擊損傷
  3.9  紅外光學元件錶麵的雨蝕
  3.10  激光窗口用光學材料
  參考文獻
第4章  紅外光學材料的製備方*和工藝
  4.1  引言
  4.2  熱壓工藝
    4.2.1  熱壓的工藝原理
    4.2.2  ZnS和.ZnSe的熱壓
    4.2.3  熱壓製備其他光學材料
  4.3  燒結、熱壓燒結和熱等靜壓*
    4.3.1  燒結、熱等靜壓製備ZnS
    4.3.2  尖晶石(MgAl204)的製備
    4.3.3  氮氧化鋁(A10*)晶體
  4.4納米和亞微米氧化物透明陶瓷的製備
    4.4.1  透明A1203哆晶陶瓷
    4.4.2  *d：YAG
    4.4.3  納米MgO和Y203
  4.5  熔體定嚮凝固*
    4.5.1  定嚮凝固的熱流及溫度分布
    4.5.2  熱交換*(}tEM)
    4.5.3  梯度凝固*(GSM)
    4.5.4  垂直梯度凝固*(VGF)
    4.5.5  泡生*(kyropoulos*)
    4.5.6  水平*生長藍寶石
  4.6  導模*
    4.6.1  導模*生長原理
    4.6.2  導模*工藝
  4.7  直拉生長*((~'zochralski*)
    4.7.1  熔體生長的基本原理
    4.7.2  鍺和矽單晶生長
    4.7.3  Ⅲ1V族化閤物半導體GaAs和GaP
  參考文獻
第5章  化學氣相沉積製備紅外光學材料
  5.1  引言
  5.2  化學氣相沉積基礎
    5.2.1  概述
    5.2.2  溫度的影響
    5.2.3  反應劑分子嚮襯底錶麵的傳輸
    5.2.4  壓力的影響
    5.2.5  反應劑氣體流動狀態
  5.3  CVDZnS和CVDZnSe
  5.4  CVDB—SiC
  5.5  CVDGaP
  5.6  CVDSi2*4
  參考文獻
第6章  金剛石光學材料
  6.1  概述
  6.2  CVD金剛石性質
    6.2.1  CVD金剛石的光學性能
    6.2.2  CVD金剛石的熱學性質
    6.2.3  CVD金剛石的力學性質
    6.2.4  金剛石的氧化和保護
  6.3  CVD金剛石生長機理
    6.3.1  錶麵激活
    6.3.2  生長機製
    6.3.3  缺陷的産生
    6.3.4  原子H的輸送
  6.4  CVD金剛石生長工藝
    6.4.1  M’WCVD金剛石閤成
    6.4.2  直流電弧放電等離子體閤成金剛石
    6.4.3  燃燒火焰噴射閤成金剛石
  6.5  金剛石塗層
    6.5.1  鍺上的金剛石塗層
    6.5.2  ZnS上的金剛石膜.
  6.6  CVD金剛石錶麵加工
    6.6.1  激光束平滑技術
    6.6.2  熱金屬研磨金剛石錶麵的熱化學拋光技術
    6.6.3  等離子體腐蝕拋光
  參考文獻
第7章  增透膜和保護膜
  7.1引言
  7.2  紅外光學材料的寬帶增透膜
  7.3  薄膜製備方*
  7.4  錶麵凸起結構的減反射
  7.5  光學元件錶麵保護
  7.6  類金剛石碳(DLC)膜
  7.7  GeC膜
    7.7.1  GeC膜的製備
    7.7.2  GeC膜的光學性質
    7.7.3  GeC膜的力學性能
  7.8  BP和GaP膜.
    7.8.1  BP膜的製備
    7.8.2  BP膜的結構
    7.8.3  BP膜的光學性質
    7.8.4  BP膜的力學性質
  7.9  雨蝕保護
  7.10  沙蝕保護
  7.11  其他硬質保護膜
  7.12  透明導電膜
    7.12.1  金屬網格濾波器
    7.12.2  導電襯底和導電膜
    7.12.3  導電網格設計
  參考文獻 顯示全部信息

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