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內容簡介

《TFT-LCD原理與設計》基於TFT-LCD工廠生産的實踐，科學原理與工程應用相結閤。介紹瞭TFT-LCD的基本概念，組成材料，工藝和設計流程等；列舉瞭高品質、低成本的設計理念和設計方法；最後在以低溫多晶矽LTPS工藝為例，介紹中小尺寸，特彆是便攜式TFT-LCD産品的發展。對一綫技術人員及電子專業的學生具有重要的參考價值。

目錄

第一章 TFT-LCD概述
1.1 TFT-LCD的發展
1.1.1 TFT-LCD發展簡史
1.1.2 TFT-LCD的競爭與趨勢
1.1 TFT-LCD的基本概念
1.2.1 産品相關的概念
1.2.2 光學相關的概念
1.3 TFT-LCD的結構與功能

第二章 彩色TFT-LCD基礎
2.1 色彩學基礎
2.1.1 光與色
2.1.2 光的亮度
2.1.3 色的坐標
2.1.4 色的溫度
2.1.5 TFT-LCD的彩色顯示
2.2 TFT器件基礎
2.2.1 TFT器件原理
2.2.2 TFT開關的特性要求
2.2.3 TFT開關特性的工藝設計
2.2.4 TFT開關特性的結構設計
2.3 液晶顯示基礎
2.3.1 液晶的基本結構與特性
2.3.2 液晶光學
2.3.3 液晶電學
2.3.4 液晶力學
2.3.5 液晶的顯示模式

第三章 TFT-LCD材料技術
3.1 玻璃基闆
3.1.1 玻璃基闆的製造技術與發展
3.1.2 玻璃基闆的使用要求
3.2 ITO薄膜
3.3 配嚮膜
3.3.1 配嚮膜的材料技術
3.3.2 配嚮膜的特性要求
3.4 液晶材料
3.4.1 液晶的物理特性與分子結構設計
3.4.2 液晶材料的特性要求
3.5 Seal材
3.6 微粒子
3.6.1 球狀Spacer
3.6.2 縴維狀Spacer和金球Spacer
3.7 CF基闆
3.7.1 CF的材料技術
3.7.2 CF的特性要求
3.7.3 CF的製造技術
3.8 偏光薄膜
3.8.1 偏光闆
3.8.2 相位差闆
3.8.3 寬視角補償膜
3.9 電路元件
3.10 背光源
3.10.1 光源
3.10.2 光學膜片
3.10.3 導光闆

第四章 TFT-LCD工藝技術
4.1 陣列工藝技術
4.1.1 陣列工藝流程
4.1.2 洗淨工藝
4.1.3 Sputter成膜工藝
4.1.4 CVD成膜工藝
4.1.5 PR工藝
4.1.6 曝光工藝
4.1.7 濕刻工藝
4.1.8 乾刻工藝
4.1.9 陣列檢查工程
4.2 成盒工藝技術
4.2.1 配嚮膜成膜與配嚮
4.2.2 Spacer散布與固著
4.2.3 封框膠與銀漿塗布
4.2.4 液晶滴下
4.2.5 真空貼閤
4.2.6 封框膠硬化
4.2.7 玻璃切斷
4.2.8 偏光闆貼付
4.2.9 成盒工程檢查
4.3 模塊工藝技術
4.3.1 OLB工程
4.3.2 PCB壓接
4.3.3 模塊組裝
4.3.4 老化實驗
4.3.5 模塊工程檢查

第五章 TN顯示原理與設計
5.1 TN顯示原理
5.1.1 TN顯示的光透過率
5.1.2 TN顯示的光學原理
5.1.3 TN顯示的電學原理
5.2 TN像素工作原理
5.2.1 TN像素基本結構
5.2.2 像素中的電容效應
5.2.3 配綫延遲效應
5.2.4 灰階電壓寫入與保持
5.2.5 TN顯示的綜閤效應
5.3 15XGA的顯示屏設計
5.3.1 預設計
5.3.2 陣列側像素設計
5.3.3 彩膜側像素設計
5.3.4 顯示屏周邊設計
5.3.5 顯示屏用Mark設計
5.4 15XGA的基闆相關設計
5.4.1 基闆用TEG與Mark設計
5.4.2 UV Mask與UVSheet設計
5.4.3 配嚮膜印刷版設計

第六章 IPS顯示原理與設計
6.1 IPS顯示原理
6.1.1 IPS顯示的光透過率
6.1.2 IPS顯示的光學原理
6.1.3 IPS顯示的電學原理
6.1 IPS技術的發展
6.2.1 從單疇結構到多疇結構
6.2.2 有機膜IPS技術
6.3 32HD顯示屏設計
6.3.1 S-IPS像素概要
6.3.2 SA-IPS像素概要
6.3.3 32HD像素設計
6.3.4 32HD顯示屏設計
6.4 FFS顯示原理與設計
6.4.1 FFS的電光學原理
6.4.2 FFS技術的發展
6.4.3 FFS的像素設計
6.5 IPS殘像機理與解決方案
6.5.1 IPS殘像機理
6.5.2 離子型不純物分析
6.5.3 殘留DC分析
6.5.4 綫殘像的機理與對策

第七章 VA顯示原理與設計
7.1 VA顯示原理
7.1.1 VA顯示的光透過率
7.1.2 VA顯示的光學原理
7.1.2 VA顯示的電學原理
7.2 不同VA技術的發展
7.2.1 MVA技術的發展
7.2.2 PVA技術的發展
7.2.3 CPA技術的發展
7.2.4 新型VA顯示技術
7.3 VA的色偏機理與對策
7.3.1 VA的色偏機理與評價
7.3.2 色偏的改善技術
7.4 46FHD顯示屏設計
7.4.1 46FHD像素的預設計
7.4.2 46FHD像素的詳細設計
7.4.3 46FHD顯示屏的整體設計
7.4.4 46FHD顯示屏拼接曝光設計

第八章 TFT-LCD驅動技術與設計
8.1 TFT-LCD驅動原理
8.1.1 驅動原理簡介
8.1.2 驅動方式
8.1.3 階調增強技術
8.2 TFT-LCD電路技術
8.2.1 電源電路
8.2.2 時序控製電路
8.2.3 數據驅動電路
8.2.4 掃描驅動電路
8.2.5 接口電路
8.3 TFT-LCD電路設計
8.3.1 電路設計概要
8.3.2 電路原理圖設計
8.3.3 PCB版圖設計
8.3.4 COF設計
8.3.5 伽瑪設計與調節

第九章 TFT-LCD結構技術與設計
9.1 結構技術與設計概要
9.1.1 結構技術概要
9.1.2 結構設計概要
9.2 OPEN CELL結構設計
9.3 背光源結構設計
9.3.1 後闆金設計
9.3.2 導光闆設計
9.3.3 光學膜片設計
9.3.4 燈管設計
9.3.5 燈管反射罩和電源綫設計
9.3.6 LED光源的結構設計
9.4 模塊結構綜閤設計
9.4.1 組裝設計
9.4.2 強度設計
9.4.3 散熱與防塵設計
9.4.4 電學設計
9.4.5 光學設計
9.4.6 安全性設計

第十章 高品質和低成本設計
10.1 麵嚮光學規格的高品質設計
10.1.1 高亮度設計
10.1.2 高對比度設計
10.1.3 高響應速度設計
10.2 麵嚮特殊畫質的高品質設計
10.2.1 閃爍機理與設計對策
10.2.2 串擾機理與設計對策
10.2.3 顯示不均機理與設計對策
10.3 閤格率設計
10.3.1 工程檢查及相關設計
10.3.2 ESD改善設計
10.3.3 點缺陷修復設計
10.3.4 綫缺陷修復設計
10.4 低成本設計
10.4.1 4MASK設計
10.4.2 省UV MASK設計
10.4.3 低材料成本設計

第十一章 LTPS TFT-LCD原理與設計
11.1 LTPS TFT原理與設計
11.1.1 LTPS TFT器件基礎
11.1.2 LTPS TFT特性設計
11.1.2 LTPS TFT工藝技術
11.2 LTPS TFT-LCD周邊電路集成設計
11.2.1 模擬輸入電路集成設計
11.2.2 DAC內置電路集成設計
11.3 半透過型LTPS TFT-LCD原理與設計
11.3.1 半透過型LTPS TFT-LCD
11.3.2 半透過型TFT-LCD的反射光學設計
11.3.3 半透過型TFT-LCD的偏光光學設計

前言/序言

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