內容簡介
《優選光學製造工程與技術原理》(作者程灝波、譚漢元)共11章。靠前章介紹瞭光學儀器及光電儀器、優選光學製造技術的發展等內容。第2章主要介紹瞭光學零件的基礎理論,包括數學描述、零件材料、拋光機理、質量評價等內容。第3章至第6章詳細介紹瞭計算機控製小工具頭技術、磁流變拋光技術、電流變技術、磁射流技術等光學非球麵製造技術。第7章綜述瞭其他優選光學製造新技術。第8章至靠前1章介紹瞭光學非球麵檢測技術,包括輪廓檢測技術、乾涉檢測技術、子孔徑拼接技術、亞錶麵損傷檢測技術。 本書適用於航空航天、天文和信息技術等領域的從事光學製造檢測工作的工程技術人員,以及大專院校相關專業的學生和科研人員。這本書在內容組織上體現齣一種嚴謹的遞進邏輯,作者似乎非常清楚非本專業背景的讀者在學習新技術時會遇到的認知障礙點,因此在每一章節的開篇,都會用相當的篇幅去迴顧和梳理基礎理論,確保讀者在進入高階內容前,已經牢固地掌握瞭必要的物理學和數學基礎。這種“打地基”的教學方式,雖然在專業人士看來可能略顯冗餘,但對於跨領域學習者或者初入行的新手來說,簡直是福音。我特彆留意瞭關於薄膜沉積和刻蝕技術那一章,它沒有直接跳到最新的設備參數,而是先詳細闡述瞭原子層沉積(ALD)的物理化學機理,然後纔逐步過渡到實際工藝窗口的選擇,這種由淺入深、層層遞進的結構,使得即便是初次接觸這些高精尖製造流程的人,也能建立起一個完整的知識框架,而不是僅僅停留在對設備操作流程的錶麵瞭解上。這種結構安排,體現瞭作者深厚的教學經驗和對讀者需求的深刻洞察。
评分我發現這本書在案例分析的選擇上,展現齣瞭極強的時效性和前瞻性。它不僅僅羅列瞭過去三十年內光刻、研磨等經典工藝的發展曆程,更重要的是,它深入探討瞭當前業界正在攻剋的前沿難題,例如超分辨成像技術中的計算光刻和柔性電子器件的高精度對準技術。作者沒有迴避這些領域目前存在的局限性和挑戰,反而直接點明瞭理論瓶頸和工程難題,並且提供瞭若乾富有啓發性的潛在解決方案方嚮。這使得這本書讀起來完全不像一本靜態的教科書,更像是一本與行業發展同步的動態參考手冊。特彆是其中關於極端紫外光(EUV)光源係統集成的章節,對係統誤差的分析細緻入微,遠超我預期的深度,這對於從事相關係統工程設計的人員來說,無疑是極具價值的參考資料,它促使我們去思考如何優化整個製造鏈條的協同效率,而非孤立地看待某個單一的工序環節。
评分這本書的語言風格極其務實,幾乎沒有齣現那些故作高深的術語堆砌或者誇張的形容詞,行文風格非常直白、客觀,仿佛是一位經驗豐富的老工程師在嚮徒弟傳授“實戰經驗”。我欣賞它對“工程實現”細節的關注,很多學術論文往往隻關注“能做成什麼”,而這本書則重點探討瞭“如何穩定地、大規模地做成”,這纔是工程學的核心價值所在。例如,在描述錶麵粗糙度控製時,書中詳細對比瞭不同研磨介質在不同環境濕度下的錶現差異,以及如何通過實時反饋係統來補償刀具磨損帶來的影響,這些具體的參數和經驗教訓,是那些純理論著作中絕對找不到的“乾貨”。這種強調可重復性、魯棒性和成本效益的敘事角度,極大地增強瞭本書的實用性,讓讀者能夠迅速將理論知識轉化為可操作的工藝參數和實驗方案。
评分從學術引用和資料的全麵性來看,這本書的作者顯然投入瞭巨大的心力進行文獻調研和交叉學科的整閤。我注意到書中不僅引用瞭光學工程領域的經典文獻,還穿插瞭材料科學、真空物理乃至人工智能在良率分析中的應用實例。這種廣闊的視野,打破瞭傳統單一學科壁壘的限製,構建瞭一個更貼近現代復雜製造環境的知識體係。尤其是在探討微納結構光柵製造的部分,作者不僅迴顧瞭傳統的電子束刻蝕(EBL),還深入分析瞭納米壓印(NIL)技術在柔性基底上的應用潛力及其麵臨的模具疲勞問題,並將這些技術與新興的深度學習輔助缺陷檢測方法進行瞭關聯性討論。這種跨領域知識的融閤與係統性的梳理,使得這本書不僅僅是一個技術手冊,更像是一份指引未來十年光電製造技術發展方嚮的綜閤性戰略報告,非常適閤作為研發部門的案頭工具書來儲備和使用。
评分這本書的裝幀和排版著實令人眼前一亮,拿到手中,那種厚重感和紙張的質感就讓人覺得這是一本用心製作的專業書籍。封麵設計簡潔大氣,配色沉穩,很符閤精密工程領域的專業調性。內頁的印刷清晰度極高,圖文排布錯落有緻,即便是那些極其復雜的理論公式和實驗裝置的示意圖,也都能看得一清二楚,沒有齣現任何模糊不清或者重影的情況。尤其值得稱贊的是,書中大量采用的高清彩色插圖和剖麵圖,極大地輔助瞭對抽象概念的理解,比如那些關於光束整形和乾涉測量的復雜幾何結構,光靠文字描述是很難想象的,但有瞭精美的圖示,瞬間就清晰瞭許多。而且,頁邊距的留白處理得當,使得在閱讀過程中,可以很方便地做筆記和批注,這對於需要反復研讀和查閱的工具書來說,是極其人性化的設計考量。整體來看,這本書的製作水準已經達到瞭頂級學術著作的水準,從書本實體本身來說,它已經是一件值得收藏的工藝品瞭。
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